ACM 리서치, 전력 반도체 제조·웨이퍼 레벨 패키징 애플리케이션 지원 Ultra C pr 장비에 금속 박리 공정 추가

중국 전력 반도체 제조사 최초 시스템 검증

2022-11-18 10:47 출처: ACM 리서치 코리아

ACM 리서치가 전력 반도체 제조 및 웨이퍼 레벨 패키징 애플리케이션 지원 위해 Ultra C pr 장비에 금속 박리 공정을 추가했다

서울--(뉴스와이어) 2022년 11월 18일 -- 반도체 및 첨단 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 위한 웨이퍼 처리 솔루션 전문 기업인 ACM 리서치(ACM Research, Inc., NASDAQ: ACMR)가 전력 반도체 제조 및 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 지원하기 위해 금속 박리(metal lift-off, MLO) 기능을 포함하도록 Ultra C pr 포토레지스트 장비 제품군을 확장했다.

MLO 기능은 에칭 공정 단계를 줄이도록 사용할 수 있어 비용을 줄이고, 사이클 시간을 최적화하며, 고온에서 화학 물질 수요를 크게 줄일 수 있다. ACM은 MLO 기능을 지원하는 첫 번째 Ultra C pr 장비가 중국의 전력 반도체 제조 회사에서 품질 검증을 마치고 양산 라인에 적용됐다고 발표했다.

ACM의 데이비드 왕(David Wang) CEO겸 사장은 “우리는 플랫폼 기반의 다양한 장비 공급 회사로서의 입지를 강화하기 위해 노력하고 있으며, 반도체 세정 분야 이외의 새 영역으로 시장 기회를 넓혀 나가기 위해 제품군을 지속적으로 확장하고 있다. 우리의 Ultra C pr 장비는 우수한 포토레지스트 제거 기능을 발판으로 이미 광범위한 고객들을 확보하고 있다”며 “새 MLO 공정을 통해 Ultra C pr 장비는 이제 포토레지스트 외부 금속층을 보다 쉽게 박리하고, 기타 불필요한 금속이나 잔류물을 제거할 수 있게 됐다”고 말했다. 이어 “양산 환경에서의 이 기술에 대한 초기 검증으로서 MLO 기능을 갖춘 첫 번째 Ultra C pr 장비에 대한 품질 평가가 성공적으로 이뤄진 것에 대해 기쁘게 생각한다”고 덧붙였다.

ACM의 Ultra C pr 장비는 탱크형 고무 제거 침지 모듈 및 단일 칩 세정 챔버와 직렬로 사용된다. 금속 제거 공정은 고무 제거와 동시에 수행된다. 이 장비는 서로 다른 단일 칩 세정 챔버를 고무 제거 기능과 세정 기능으로 구성하고, 챔버 구조를 최적화해 분해, 세정 및 유지 관리가 용이할 뿐 아니라 금속 스트립 공정에서 잔류물 축적 문제도 해결한다. 이 공정은 ACM의 SAPS 메가소닉 세정 기술로 구성해 웨이퍼 세정 성능을 더욱 개선할 수 있다.

ACM 리서치(ACM Research, Inc.) 개요

ACM은 싱글 웨이퍼 또는 배치 습식 세정을 위한 반도체 공정 장비를 개발, 제조 및 판매하고 있으며, 전기도금, 무응력 광택 및 수직형 퍼니스 등은 첨단 반도체 소자 제조 및 웨이퍼 레벨 패키징에 매우 중요한 공정이다. 회사는 반도체 제조회사들이 생산성과 제품 수율을 향상하기 위해 수많은 제조 단계에서 사용할 수 있는 고성능의 비용 효율적인 맞춤형 공정 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있다. 자세한 정보는 홈페이지를 참조하면 된다. ACM 로고는 ACM Research, Inc.의 상표이다. 편의를 위해 이러한 상표는 본 발표에 ™ 기호 없이 나타나지만, 그러한 관행으로 인해 ACM이 해당 상표에 대한 권리를 완전히 주장하지 않는 것은 아니다.

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